| 제목 | 등록특허 [등록특허] MOCVD를 이용하여 고품질 epitaxial layer 형성을 위한 4-step NWELOG 성장방법 |
|---|---|
| 출원번호 | 제 10-1273459 호 |
| 출원인 | 이철로 |
| 출원일 | 2011. 9. 28. |
Semiconductor Materials & Process Laboratory
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