| Title | Preparation and properties of low dielectric constant SiOC(-H) thin films deposited by using PECVD |
|---|---|
| Publication year | 2010 |
| Author | R. Mathu, Cheul-Ro Lee, R. Nirmala, Chang Ypung Kim and Chi Kyu Choi |
| Journal | Journal of the Korean Physical Society (IF: 0.649) |
| JCR factor | 79.09 % |
| Vol | Vol.56, pp.818-822 |
| DOI | https://doi.org/10.3938/jkps.56.818 |
Semiconductor Materials & Process Laboratory
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