| Title | Study on the effect of Nitrogen-Ion Implantation in Semi-Insulating InP by Using Scanning Tunneling Microscopy |
|---|---|
| Publication year | 2007 |
| Author | K.Santhakumar, C.R.Lee, R.Kesavamorthy, K.G.M.naiv, P.Jayavel, Y. Hayakawa and J. Soga |
| Journal | Journal of the Korean Physical Society (0.535) |
| JCR factor | 0.94% |
| Vol | Vol.51, pp.585-588 |
| DOI | https://doi.org/10.3938/jkps.51.585 |
Semiconductor Materials & Process Laboratory
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