| Title | N-type doping behavior of Al₀.₁₅Ga₀.₈₅N:Si with various Si incorporations |
|---|---|
| Publication year | 2002 |
| Author | Cheul-Ro Lee |
| Journal | Journal of Crystal Growth (IF: 1.797) |
| JCR factor | 57.69 % |
| Vol | Vol.246, pp.25-30 |
| DOI | https://doi.org/10.1016/S0022-0248(02)01789-X |
Semiconductor Materials & Process Laboratory
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